光刻技术 PPT课件
在现代半导体制造领域中，光刻技术占据着至关重要的地位。作为微电子器件生产的核心工艺之一，光刻技术通过使用光学手段将设计好的电路图案精确地转移到硅晶圆上，从而实现大规模集成电路的制造。
光刻技术的基本原理是利用光敏材料对特定波长光线的反应特性。首先，在晶圆表面涂覆一层光刻胶，然后通过掩模版将电路图案投影到光刻胶上。曝光后的光刻胶会在显影过程中发生变化，未曝光的部分被溶解掉，留下所需的电路图案。接下来，经过蚀刻等后续步骤，最终完成电路结构的形成。
随着科技的发展，光刻技术不断进步，分辨率和精度也得到了显著提升。目前，最先进的光刻设备能够实现纳米级的精细加工，为推动半导体行业的发展做出了巨大贡献。
本PPT课件旨在详细介绍光刻技术的工作原理、发展历程及其在半导体工业中的应用，帮助大家更好地理解这一关键技术的重要性。
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